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日本uv-asumi準分子輻照裝置介紹
準分子燈利用充滿(mǎn)稀有氣體的燈內產(chǎn)生的放電等離子體產(chǎn)生的光（準分子光）。
主要波長(cháng)為126nm（Ar 2 *）、146nm（Kr 2 *）、172nm（Xe 2 *）、222nm（KrCl *）和308nm（XeCl * ）。
我們使用Hamamatsu Photonics Co., Ltd.生產(chǎn)的Xe 2主波長(cháng)為172 nm的燈單元，并提供表面改性和親水處理（改善潤濕性）的設備。
通過(guò)使用平板燈，可以實(shí)現大面積的均勻照射。
采用RF（射頻），輸出穩定，閃爍少
172nm 的單一波長(cháng)可實(shí)現更高效的準分子輻照加工。
可以立即打開(kāi)和關(guān)閉
與電暈放電和等離子方法直接對工件進(jìn)行放電不同，準分子照射僅照射真空紫外線(xiàn)，因此對工件幾乎不會(huì )造成損壞。
與因電極濺射而產(chǎn)生灰塵的電暈放電法和等離子法不同，可以進(jìn)行清潔加工。
準分子照射使用平板燈發(fā)出的光，因此不存在加工不均勻的情況。
光的波長(cháng)越短，它的能量就越高。使用氙 (Xe) 的準分子燈具有 172nm 的主波長(cháng)和 698kJ/mol (7.23eV) 的高能量。利用這種高能量，它可用于特氟龍等難以使用低壓汞燈對其表面進(jìn)行改性的材料。
該裝置集成了主波長(cháng)為172nm的準分子照射裝置、掃描臺和臭氧分解裝置，僅使用100V電源即可輕松安全地進(jìn)行準分子表面改性實(shí)驗。
掃描階段允許處理比以前更大的區域。集成臭氧分解裝置，無(wú)需排氣設備等。
這是照射寬度為400mm的準分子照射單元的掃描型照射裝置。
最大工作尺寸為 400 x 800 毫米。
