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產(chǎn)品型號: OMD-1000
所屬分類(lèi):
產(chǎn)品時(shí)間:2020-10-10
簡(jiǎn)要描述:日本朝日分光asahi-spectra光學(xué)膜厚儀OMD-1000這是一臺光譜膜厚監測儀,用于監測在用單色光進(jìn)行氣相沉積過(guò)程中基板上的光量變化。它也用在我們自己的氣相沉積設備中,并作為膜厚監測設備完成,該設備具有氣相沉積零件制造商的專(zhuān)有技術(shù)。
日本朝日分光asahi-spectra光學(xué)膜厚儀OMD-1000
這是一臺光譜膜厚監測儀,用于監測在用單色光進(jìn)行氣相沉積過(guò)程中基板上的光量變化。它也用在我們自己的氣相沉積設備中,并作為膜厚監測設備完成,該設備具有氣相沉積零件制造商的專(zhuān)有技術(shù)。
全波長(cháng)范圍
在傳統型號中,波長(cháng)選擇是濾光片類(lèi)型,但是新產(chǎn)品結合了我們成熟的光譜儀,現在可以選擇任何波長(cháng)。
膜厚變化的信號是從電壓輸出到與個(gè)人計算機兼容的數字輸出,控制機制是從手動(dòng)操作到個(gè)人計算機的命令控制。此外,通過(guò)將薄膜厚度計主體通過(guò)I / F直接連接到個(gè)人計算機來(lái)控制其厚度成為可能,這是一個(gè)非常緊湊的系統,無(wú)需像其他制造商一樣具有控制器。
特征
日本朝日分光asahi-spectra光學(xué)膜厚儀OMD-1000
模型 | OMD-1000 |
光譜儀類(lèi)型 | Zellny Turner類(lèi)型單單色 |
波長(cháng)范圍 | 保證范圍:380至900 nm可操作 范圍:350至1100 nm |
波長(cháng)分辨率 | 狹縫0.5mm:4.2nm [546nm] 狹縫1.0mm:8.3nm [546nm] |
波長(cháng)精度 | ±1.0納米 |
小波長(cháng)進(jìn)給 | 0.1納米 |
外部控制 | RS232C |
外部輸出端子 | DC0-2V(滿(mǎn)量程) |
采樣間隔 | 100ms以上 |
靜電放電試驗耐電壓 | ±5kV(實(shí)際8kV) |
光源 | 12V100W鹵素燈 |
光強度穩定性 | ±0.1%/ h以下 |
輸入電壓 | AC100V 50/60赫茲 |
允許輸入電壓 | AC85-132V |
視在功率 | 340VA以下 |
使用環(huán)境 | 溫度10-35℃ 濕度20-80% |